促進剤省エネディスク乾燥機

2、 促進剤省エネディスク乾燥機使用上の特徴

1）コントロールが容易で、適用性が高い

1、材料層の厚さ、主軸回転数、レーキアームの数、レーキブレードの型式、寸法を調整することで、乾燥を完了することができます

ベストに。

2、各層の乾燥皿は単独で熱媒体または冷媒体に通し、材料を加熱または冷却し、物

材料温度の制御は正確で、容易である。

3、材料の流れが単一で、逆混合現象がなく、乾燥が均一で、品質が安定しており、混合する必要がない。

2）操作が簡単、容易

1、乾燥器の運転、駐車操作はとても簡単です。

2、供給を停止した後、材料を搬送する熊手の葉は乾燥器内の材料を迅速に排出することができる。

3、特殊な大規格検視ドアとミラーを通じて、設備内を丁寧に洗浄し、見ることができる

察する。

3）低消費電力

1、材料層が薄く、主軸回転速度が低く、材料伝送システムに必要な電力が小さく、電気消費量が少ない。

2、伝導熱で乾燥を行い、熱効率が高く、エネルギー消費が低い。

4）操作環境が良く、回収可能な溶剤、粉塵排出が要求に符合する

1、常圧型

設備内のガス流速が低く、しかも設備内の湿度分布が上下に低く、粉塵が浮きにくい

デバイスの上部にあるので、 上部排湿口から排出される排ガスには粉塵がほとんど含まれていない。

2、密閉型

加湿ガス中の有機溶媒を容易に回収するための溶媒回収装置を備えている。ようざいかいしゅう

装置は簡単で、回収率が高く、燃えやすい、爆発しやすい、有毒で酸化しやすい材料に対して、窒素ガスを用いることができる

キャリア湿気として閉路循環を行い、安全に操作させる。特に可燃性、爆発性、有

毒性物質の乾燥。

3、真空型

真空状態で動作するディスク乾燥機は、特に感熱性材料の乾燥に適している。

5）設置が便利で、敷地面積が小さい

1、乾燥器は全体的に出荷され、全体的に輸送され、揚重するだけで、設置位置決めは非常に容易である。

2、乾燥ディスク層式配置、縦型設置のため、乾燥面積が大きく、敷地面積も小さい。

[設備写真]

二、促進剤省エネディスク乾燥機お客様が提供するパラメータと要件

1、品目名：そくしんざいMBT

2、産 量：2000キロ/時間

3、初含溶剤：すいぶん0.5%（湿式基）、トルエン18%（湿式基）

4、最終水分：水分＜0.1%、トルエン＜0.05%

5、りゅうたい 直径:20-80め

6、たい積比重： かんそうざいりょう0.75グラム/cm³

7、熱 ソース:0.3 Mpa飽和蒸気

8、品目特性：

9、乾燥方法：真空ディスク乾燥

10、設備材質：材料接触ステンレス鋼304

11、安 装：室内

12、電気 ソース:380 V 50 HZ三相四線 モータ爆発防止

防爆等級ExdⅡCT4，防護レベルIP 65